第三百六十八章 财神像真有用 (2/3)

丁耀先点了点头，转身走到白板边上，拿起一只马克笔，在白板左边写了一个“七纳米”，然后在白板右边又写了一个“七纳米”。

然后面向源智众人，开口说道：“虽然都叫七纳米，但七纳米和七纳米可不一样。”

“芯片生产，是用光‘刻’出来的，所以生产设备叫光刻机。光的波长越短，能刻出来的线条就越细，晶体管就能做越小。uv用的是极紫外线，波长只有十三点五纳米，一次曝光就能刻出来。”

“台积电的七纳米，用的就是uv，每平方毫米能塞进去将近一亿个晶体管，良率稳、频率高，之前英伟达、苹果、am用的都是这套工艺。更别说现在他们都已经稳定生产三纳米，甚至两纳米了。”

“冰芯现在做的七纳米，因为买不到uv，只能用uv光刻机做多次曝光来模拟。uv用的是深紫外线，波长将近两百纳米，想要刻出同样的线条，人家曝光一次，我们要反复曝光好几次。多一次曝光，就多一次误差。晶体管密度打了折扣，漏电控制也差。”

“同样一份电路设计图，从台积电搬到冰芯的工艺上，芯片面积就是更大、频率就是更低、功耗就是更高。”丁耀先说这话的时候语气也透露出一阵愤怒来。

韩路一听懂了，冰芯就像是在拿着粗刻刀去雕微雕，和拿着细刻刀的台积电比精细，怎么也说不上是公平。

他对丁耀先的愤怒也感同身受。

不是你不想赶超，但是从工具层面就被限制住了，再付出几倍的努力也很难赶上。

讲完了科普课，丁耀先回到投影旁边，说道：“我们的建议是先把迁移做完，流片成功之后我们可以直接量产，之后工艺怎么提升，我们再想办法。”

这是冰芯的意思。

先把l100迁移到冰芯的工艺上，哪怕性能下降一些，至少成功率高。等第一批芯片生产出来，双方建立了配合经验，再谈后面的改进。

站在冰芯的角度，这个方案没有任何问题。

但韩路一不能接受。

如果源智只是想要一块能用的国产训练芯片，这条路当然可以走。

汤圆现在是用鼎盛的英伟达pu集群训练出来的，在参数规模上其实比不上那几个竞争对手。而用自己的集群做做后训练还行，想要从预训练开始做起，源智的算力还差远。

英伟达一直在发布新卡，国外的大模型厂商也一直在采购英伟达的新卡。

如果就这么按部就班地发展，源智和国外竞争对手的差距会越来越大，直到这个差距大到靠标注数据的质量优势也无法抹平。

所以源智不能接受这个方案。

韩路一开口了：“丁总，这个方案可以作为保底。”